洛斐机械手感 TMR 磁轴键盘 HYZEN67 国行上架:7 月 9 日发售
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IT之家 7 月 2 日消息,韩媒 sedaily 昨日(7 月 1 日)发布博文,报道称三星为追赶台积电,正计划在半导体光刻仿真技术整合量子计算和 AI,从而压缩光刻与蚀刻流程的时间和成本,并优化芯片密度与良率。
消息称该项目由三星子公司 Samsung SDS 负责推进,计划 2026 年下半年启动技术验证,聚焦针对光刻工艺研发仿真算法,技术路径结合量子计算和 AI,降低光刻与蚀刻流程的时间和成本。
IT之家注:光刻是半导体制造中的核心工艺之一,利用光把电路图形转移到晶圆表面的感光材料上,随后再进入刻蚀等步骤形成实际电路结构,常用于先进芯片制造中的图形定义与尺寸控制。
在技术路径方面,量子计算机负责仿真中的核心运算,经典计算机负责处理量子运算生成的信息,人工智能系统负责识别量子计算过程中的错误并执行实时校正。

项目目标是建立更快、更准确的光刻工艺仿真设计能力。三星 SDS 已经研发出部分算法,下一阶段将通过今年下半年的 POC 检验技术有效性。
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